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艺最高可以推进到65n，想要更上一层——
就得用到浸入技术，也就是让镜头和硅片之间的空间浸泡于液体之中，在此基础上，就有了四代半的浸入步进式投影式光刻机。
本来，逻辑跟asl这些国际一线的光刻机厂商，就只剩arfi这么个半代差距。
但euv光刻机一出现，又把这个差距拉到了至少15代，而且这个技术差距，不像制程工艺那么好追，是整个产业链的全面落后。
“不是我急，陆总，一旦euv预生产成功的话，英特尔、三星、台积电也许不出年，就能得到euv光刻机的生产线……”
尹志尧话里无不透着焦虑。
“尹教授，这台euv，asl、三星、英特尔、蔡司、台积电它们花了多久才研制出来？”陆飞透过面罩的玻璃，直直看去。
“从林本坚提出浸润式微影技术的理论，到现在，大概十三、十四年。”
梁孟松站出来回答。
“对嘛，这不就结了。”
陆飞拍了拍尹志尧的肩膀，“euv集欧美日韩这么多全球最顶尖的半导体公司和人才，也要花13年的时间，何况是我们呢！”
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